法人单位名称*佳木斯大学法人机构代码* 
仪器中文名称*离子注入设备规格型号*HPID-500
主要技术指标*1、输出功率：0-1KW连续可调；
2、输出阻抗：50Ω；
3、输出频率：13560KHZ；
4、频率稳定度：≤1.0×10-6（20℃）；
5、连续工作时间：8小时。
主要附件*该设备包括真空系统1套、磁控溅射电源2套、偏压电源1套、高压电源1套及射频电源1套。
功能/应用范围*多种气体离子浸没注入。
仪器服务内容*（按条列出）磁控溅射实现各种复合膜如金属膜、氮化物膜、碳化物膜及氧化物膜以及调质膜的制备，配合高压电源可实现上述膜层的注入与沉积。磁控溅射电源采用直流复合脉冲电源显著提高膜层的致密度。
仪器使用状态*□正常使用    □限制范围使用    □维修    （单选）
所在研发基地名称*佳木斯大学材料科学与工程学院真空等离子体表面处理实验室
接待时间（工作日）*周一至周四上午收费标准（元）*100元/小时
仪器所在部门*佳木斯大学材料科学与工程学院
仪器设施联系人信息
姓名*刘向东通讯地址*佳木斯市向阳区学府街148号邮编*154002
电话*0454-8618461传真 E-mail*jmsdxkjc@163.com
仪器图片*（附电子版）